果洛雙堿法脫硫塔-雙堿法脫硫塔工作原理

雙堿法脫（tuō）硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰（huī）粉再（zài）生脫硫液，由於整個反應過程是（shì）液氣相之間（jiān）進行，避免了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高（gāo）、投資費用省、運行成（chéng）本（běn）低，適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的（de）脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材（cái）料（liào）普通，資源豐富，投資成本低；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備（bèi）腐蝕（shí）、衝刷及堵塞，便於設備（bèi）運行和維護。

2、鈉基（jī）吸收液（yè）對SO2反（fǎn）應速度快，故有較小的液氣比（bǐ），達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它的再生及脫硫（liú）沉澱均發生於塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運行成本。

4、以空塔噴淋為脫硫塔結構，運行可靠性高，事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹

雙堿法（fǎ）脫硫係統采用鈉（nà）基脫硫劑進（jìn）行脫（tuō）硫，將NaOH（燒堿、火堿（jiǎn））和（hé）Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪（jiǎo）拌均勻後做成溶液打入脫硫塔，該堿性溶液霧（wù）化後與含硫煙氣充分（fèn）反應，從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可（kě）再次循環使（shǐ）用。

2、工藝原理

含硫煙氣（qì）經（jīng）除塵後，由引風機（jī）正壓吹入（rù）噴（pēn）淋脫硫塔內（nèi）。在噴淋塔內設置霧化係統，在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化液滴，煙氣中SO2與吸收堿液再次反應，脫除90%以（yǐ）上的二氧化硫。

脫硫後（hòu）的液體落入脫硫塔底部，定時定期排入脫硫塔後設置的收（shōu）集係統，適當補（bǔ）充一定量的堿液後，經循環泵再次送入噴霧和（hé）配（pèi）液係統中被再次利用，脫硫（liú）劑一直處於循環狀態。

經多（duō）次循（xún）環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的（de）特殊性，經脫硫（liú）後的煙氣（qì）通過（guò）塔頂除霧器時，將煙氣中的液滴分離出來，達到同時除塵除霧的效（xiào）果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝（yì）優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔，脫硫塔以空塔噴淋結構，設計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫（liú）集中除塵、脫硫、排（pái）煙氣於（yú）一體，煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時（shí），脫硫暫停反應，煙氣可通過煙囪排入（rù）大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫硫塔向（xiàng）上升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌，脫硫塔采用噴（pēn）嘴式空塔（tǎ）噴淋，將溶劑霧化無數液滴，讓（ràng）氣液充分接觸吸收SO2。氣液（yè）相接（jiē）觸麵積越大，兩相傳質熱反應，效率越高。

脫硫塔內（nèi）堿液霧化吸收SO2及粉塵，生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進（jìn）入再（zài）生池與Ca(OH) 2反應，再生出鈉離子並補（bǔ）入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵打入脫硫（liú）循環吸收SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧器折流板碰衝作用，煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。

3、脫硫產物處理

脫硫產（chǎn）物（wù）是石（shí）膏漿，具體（tǐ）為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵（bèng）從沉澱池排出處理好，經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏的質量，所以（yǐ）一般（bān）以拋（pāo）棄法（fǎ）為高。排出沉澱池漿液（yè）可經水力旋流器，稠厚器增濃（nóng）提固後，再排（pái）至渣場處（chù）理（lǐ）。

4、關於二次（cì）汙染的解決

雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物（wù）可再生出鈉（nà）堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中，經（jīng）固液分離，分離的固體殘（cán）渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生（shēng）池繼續使用，因此不會產生（shēng）二次汙染。

5、吸收SO2效率（lǜ）及主要影（yǐng）響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫硫效率高，同時（shí）PH值高，結垢幾率小，避免吸收劑表麵純化。

溫度：溫度低有利於氣液傳質，溶解SO2，但溫度低影響反應速度，所以脫硫（liú）劑的溫度不是一個獨立的不變因素，取決於進氣的煙氣溫（wēn）度。

石灰粒度及純度：要求石灰純度≥95%，粒度控（kòng）製Pc200~300目內。

液漿濃度：控製在10~15%。