發布時(shí)間:2023-07-17 11:30:37 人氣:225327
雙堿法脫硫工藝是先用(yòng)鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再用石灰粉再生脫(tuō)硫液,由於整個反應過程是液氣相之間進(jìn)行,避免了係統結垢問題,而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資(zī)費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生(shēng)產(chǎn)廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫(liú),材料普通(tōng),資源豐(fēng)富,投資成本低;脫硫液中主要為(wéi)NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解水泵、管(guǎn)道、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸(xī)收液對SO2反應速度(dù)快,故有較小的液氣比,達到(dào)較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫(liú)劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均發生(shēng)於塔體,避免塔內堵塞和磨(mó)損,降(jiàng)低了(le)運(yùn)行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性(xìng)高,事(shì)故發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫(tuō)硫係統采(cǎi)用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石(shí)灰(huī))攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後(hòu)與含硫煙氣充分反應,從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工(gōng)藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿著由霧化(huà)器(qì)噴出(chū)的粒(lì)徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿(jiǎn)液再次(cì)反應,脫除90%以(yǐ)上的二氧化硫。
脫硫後的(de)液體落入(rù)脫硫塔底部,定時(shí)定(dìng)期排入(rù)脫硫塔後設置的收集係統,適當補充一定量的堿液後,經循(xún)環(huán)泵再次送入噴霧和配液係統中被再次利用,脫硫劑一直處於循環狀(zhuàng)態。
經多次循環(huán)後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設(shè)計的特殊性,經脫硫後的(de)煙氣通過塔頂(dǐng)除霧器時,將煙氣(qì)中的液滴分離出來,達到同時除塵除霧的效果,潔淨煙氣終達(dá)標排放。

三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經(jīng)煙道引風機直接進(jìn)入脫硫塔,脫硫塔以(yǐ)空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於(yú)一體,煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時,脫硫暫停反應,煙氣可(kě)通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙(yān)氣進入脫硫塔向上升起,與向下(xià)噴淋的脫硫塔以(yǐ)逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數液滴,讓(ràng)氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越(yuè)高。
脫硫塔內堿液霧化(huà)吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗(hào)了(le)NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離子並補入(rù)Na2SO3(或(huò)NaOH),經循環脫硫(liú)泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔(tǎ)頂部裝有除(chú)霧器,經除霧器折流板碰衝作用,煙氣(qì)攜帶(dài)的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離(lí)。
3、脫硫產物處理(lǐ)
脫硫(liú)產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵(chén)。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固(gù)體雜質,影響石(shí)膏的質量,所以一(yī)般(bān)以拋(pāo)棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力(lì)旋流器,稠厚器增濃提固(gù)後,再排至渣場處理。
4、關於二次汙(wū)染的(de)解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離(lí)的固體(tǐ)殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回(huí)再生池繼續使用,因此(cǐ)不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效(xiào)率及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率(lǜ)大,脫硫效率高,同時PH值高,結(jié)垢幾率小,避免吸收劑表麵純化(huà)。
溫度:溫度低(dī)有(yǒu)利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰(huī)粒度及純度:要求(qiú)石灰純度≥95%,粒度控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。